发明名称 (甲基)丙烯酸羟烷酯的纯化方法
摘要 本发明提出:一种(甲基)丙烯酸羟烷酯之纯化方法,其抑制蒸馏方法中形成副产物,诸如丙烯酸之二酯与二聚物,可以确保(甲基)丙烯酸羟烷酯之纯度,以及可以安定操作,不会造成诸如聚合作用等困扰。在一种(甲基)丙烯酸羟烷酯之纯化方法中,同时使用一种具有真空柱部分之蒸馏装置与一种薄膜蒸发装置,其中该(甲基)丙烯酸羟烷酯系于存在一种触媒下反应(甲基)丙烯酸与环氧烷,并于反应后去除反应溶液中之未反应环氧烷及/或(甲基)丙烯酸所制得。
申请公布号 TWI230152 申请公布日期 2005.04.01
申请号 TW089118978 申请日期 2000.09.15
申请人 触媒股份有限公司 发明人 米田幸弘;涉泽文生;新谷恭宏;上冈正敏
分类号 C07C69/54;C07C67/54;C07C67/26 主分类号 C07C69/54
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种(甲基)丙烯酸羟烷酯之纯化方法,其包括下 列步骤:于存在一种触媒下,反应(甲基)丙烯酸与环 氧烷,制得一种反应溶液,去除该反应溶液中之未 反应环氧烷及/或(甲基)丙烯酸,如此制得该(甲基) 丙烯酸羟烷酯, 该纯化方法之特征系同时使用一种具有真空柱部 分之蒸馏装置与一种薄膜蒸发装置。 2.如申请专利范围第1项之(甲基)丙烯酸羟烷酯之 纯化方法,其中将该蒸馏装置之底部供应至该薄膜 蒸发装置,并经由一个包括途中冷拟器之馏出物管 线,将来自该薄膜蒸发装置之馏出物送回该蒸馏装 置。 3.如申请专利范围第1项之(甲基)丙烯酸羟烷酯之 纯化方法,其中该蒸馏装置包括一个再煮锅。 4.如申请专利范围第1项之(甲基)丙烯酸羟烷酯之 纯化方法,其中在0.66至40hPa之操作压力下操作该蒸 馏装置,前于0.66至40hPa之操作压力下操作该薄膜蒸 发装置。 5.如申请专利范围第1项之(甲基)丙烯酸羟烷酯之 纯化方法,其中该蒸馏装置系一种包括数个筛盘之 蒸馏柱或包括填充材料之蒸馏柱。 图式简单说明: 图1系说明本发明纯化方法实例之一的流程图。 图2系说明对照实例1之纯化方法实例的流程图。 图3系说明对照实例2之纯化方法实例的流程图。
地址 日本