发明名称 Verfahren zur Messung der Overlay-Verschiebung
摘要 Es ist ein Verfahren zur Messung der Overlay-Verschiebung offenbart. Es wird ein Bild von mindestens einem Referenzelement, das mindestens ein erstes Strukturelement in einer ersten Ebene und mindestens ein zweites Strukturelement in einer zweiten Ebene aufweist, aufgenommen. Ebenso wird ein Bild von einem Messelement aufgenommen. Der Verschiebungswert wird durch Vergleich zwischen dem Bild des Referenzelements mit dem Bild des Messelements ermittelt. Eine Ausgabe auf einem User-Interface zeigt an, ob ein vorgegebener Toleranzwert überschritten wird.
申请公布号 DE10337767(A1) 申请公布日期 2005.03.31
申请号 DE20031037767 申请日期 2003.08.14
申请人 LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH 发明人 GERLACH, STEFFEN
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/66;H01L23/544;G01N21/84;G01N21/93;G01B11/02 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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