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发明名称
Forming method for fine patterns using silicon oxide layer
摘要
申请公布号
KR100480610(B1)
申请公布日期
2005.03.31
申请号
KR20020047233
申请日期
2002.08.09
申请人
发明人
分类号
H01L21/027;G03F7/40;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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