发明名称 | 薄膜沉积反应器 | ||
摘要 | 一种依据控制程序运行的薄膜沉积反应器,该反应器包括第一、第二阀门,用以防止第一、第二阀门同时被开启的控制单元,以及反应室。第一、第二气体分别经由被开启的第一、第二阀门被导入反应室。控制程序分别设定第一阀门和第二阀门,使得这二个阀门之中的每一个是在另一个被关闭后的一时间间隔内被开启,并且第一气体流速和第二气体流速之一为零。 | ||
申请公布号 | CN1600897A | 申请公布日期 | 2005.03.30 |
申请号 | CN03159779.3 | 申请日期 | 2003.09.25 |
申请人 | 统宝光电股份有限公司 | 发明人 | 林辉巨 |
分类号 | C23C16/448 | 主分类号 | C23C16/448 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
主权项 | 1.一种薄膜沉积反应器,该反应器包括:一第一气体阀门,用以控制第一气体的流量;一第二气体阀门,用以控制第二气体的流量;一控制单元,用以控制该第一气体阀门以及该第二气体阀门的动作;以及一反应室,与该第一气体阀门、该第二气体阀门连接,以供容纳该第一气体或该第二气体并进行沉积工艺;其中,该第一气体阀门与该第二气体阀门不得同时开启,以使该第一气体或该第二气体可于同一反应室中进行沉积工艺。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业区苗栗县 |