Vorrichtung zur Vermessung einer Belichtungsintensität auf einem Wafer

摘要

Die vorliegende Erfindung stellt eine Vorrichtung zur Vermessung einer Belichtungsintensität auf einem Wafer bereit mit: DOLLAR A einer Belichtungseinrichtung (10) zum Erzeugen einer Strahlung (11) mit einer vorbestimmten Wellenlänge; einer Maske (12) in einem ersten vorbestimmten Abstand zur Belichtungseinrichtung (10) zum strukturierten Belichten eines Wafers; einer Detektionseinrichtung (16) zum Erfassen der Belichtungsintensität in einem zweiten vorbestimmten Abstand zur Belichtungseinrichtung (11); und einer in den Strahlengang (13) bewegbaren Kompensationseinrichtung (14) zwischen der Belichtungseinrichtung (10) und der Detektionseinrichtung (16) zum Beeinflussen des Strahlenganges (13).