发明名称 |
Selektiver Plasmaätzprozess zur Aluminiumoxid-Strukturierung |
摘要 |
Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zum selektiven und gerichteten Plasmaätzen von Aluminiumoxid, bei dem ein Gemisch mit folgenden Bestandteilen zum Ätzen eingesetzt wird: DOLLAR A a. ein polymerisierendes Gas aus zumindest teilweise ungesättigten, perfluorierten Kohlenwasserstoffverbindungen; DOLLAR A b. wahlweise eine Verbindung mit der Formel CH¶x¶F¶y¶, wobei x = 1-3 ist und y = 4-x ist; DOLLAR A c. Sauerstoff und DOLLAR A d. ein geeignetes Trägergas DOLLAR A und dieses Gemisch als Plasma mit dem zu ätzenden Aluminiumoxid in Kontakt gebracht wird.
|
申请公布号 |
DE10338422(A1) |
申请公布日期 |
2005.03.24 |
申请号 |
DE20031038422 |
申请日期 |
2003.08.18 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
MOLL, PETER;TEGEN, STEFAN |
分类号 |
C23F1/00;C23F4/00;H01L21/311;(IPC1-7):C23F4/00 |
主分类号 |
C23F1/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|