发明名称 精密位移测量装置
摘要 精密零件之外部尺寸的线上量测一直是自动化制造业不可或缺的一环,如何精确地量测微小零件蔚为重要努力发展方向。本专利提出利用摩瑞(Moire)干涉原理,将产生干涉影像之格栅安置于设计之位移机构,配合影像取像单元截取干涉影像,得到精密位移式尺寸量测的装置。
申请公布号 TWM259914 申请公布日期 2005.03.21
申请号 TW093204008 申请日期 2004.03.17
申请人 陈宗禧;锺雅健 CHUNG, YA CHIEN 台北县新店市槟榔路19巷20号1楼 发明人 陈宗禧;锺雅健
分类号 G02B27/60;G01B11/02 主分类号 G02B27/60
代理机构 代理人
主权项 一种装置,应用摩瑞干涉原理,配合影像取像单元 截取干涉影像,得到精密位移量测的装置,产生干 涉影像之格栅安置于以线性滑轨组为基础之位移 机构,其包括有上下窗型机构、二格栅相对方向之 调整机构、紧配合之拉伸弹簧调整机构及原点调 整机构;机构以一精密之滚珠线性滑轨组,不移动 之下窗型机件以滑轨之上表面为基准面,固定于上 ;移动之外上窗型机构以滑轨组之滑块表面为基准 面,固定于上;印有格栅之透光片安置于内上窗型 机构及下窗型机件,利用调整上下格栅重叠性之调 整机构与外上窗型机构结合固定;机构组再固定于 基座。 图式简单说明: 第一图 装置系统示意图 第二图 格栅条纹 第三图 干涉条纹之影像 第四图 位移机构主架构之爆炸图 第五图 内、外上窗型机构之调整机构之顶座及顶 针 第六图 外上窗型机构 第七图 内上窗型机构 第八图 弹簧拉伸机构之调整杆,套环 第九图 下窗型机构
地址 台北市复兴南路2段336号4楼