PERFORMANCE EVALUATING METHOD FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS,申请号KR20010070421-传众专利搜索

发明名称	PERFORMANCE EVALUATING METHOD FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要
申请公布号	KR100478036(B1)	申请公布日期	2005.03.21
申请号	KR20010070421	申请日期	2001.11.13
申请人		发明人
分类号	H05H1/00;H05H1/46;B01J19/08;C23C16/505;C23C16/509;C23C16/52;H01J37/32;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H05H1/00	主分类号	H05H1/00
代理机构		代理人
主权项
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