| 摘要 |
<P>L'invention propose un système de génération de plasma(1), comprenant:-deux électrodes (103, 106);-un matériau diélectrique (100) séparant les électrodes;-un générateur de tension (102), connecté aux électrodes appliquant sélectivement une tension alternative présentant une fréquence supérieure à 1 MHz et une amplitude entre crêtes supérieure à 5kV entre les électrodes.L'invention porte aussi sur un procédé associé et permet notamment de générer aisément un plasma de volume ou un plasma ramifié.</P> |
