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发明名称 PROCEDE ET DISPOSITIF DE GRAVURE ANISOTROPE DU SILICIUM A HAUT FACTEUR D'ASPECT
摘要
申请公布号 FR2834382(B1) 申请公布日期 2005.03.18
申请号 FR20020000032 申请日期 2002.01.03
申请人 ALCATEL 发明人 PUECH MICHEL
分类号 B81C99/00;H01L21/3065;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/306;B81B7/02;B81C1/00 主分类号 B81C99/00
代理机构 代理人
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