| 摘要 |
<p>Eine Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Lichtquelle (1) zur Erzeugung von Projektionslicht, eine Maskierungseinrichtung (5) zur Maskierung eines Retikels (7) und ein MasKierungsobjektiv (6) zur Abbildung der Maskierungseinrichtung (5) auf das Retikel (7). Ferner ist in dem Maskierungsobjektivs (6) ein Polarisator (10) zur Erzeugung linear polarisierten Lichts angeordnet. Insbesondere bei fein strukturierten Retikeln lässt sich durch die lineare Polarisierung ein höherer Kontrast bei der Abbildung erzielen. Der Polarisator (10) weist vorzugsweise mehrere Polarisatorelemente (16, 116) auf, die in einer Ebene (X, Y) angeordnet sind. Jedes Polarisatorelement (16, 116) umfasst zwei ebene, in einem Winkel zueinander und geneigt zu der Ebene (X, Y) angeordnete polarisationsselektive Strahlteilerschichten (54, 56: 154, 156), die für Licht in einem ersten Polarisationszustand (68) durchlässig und für Licht in einem von dem ersten Polarisationszustand (68) verschiedenen zweiten Polarisationszustand (70) reflektierend ist. Dadurch ergibt sich eine insgesamt sehr flache Bauform des Polarisators (10).</p> |
