发明名称 Surface treatment method, process for producing near-field exposure mask using the method, and nanoimprint lithography mask
摘要 A surface treatment method includes a step of forming a metal layer on at least a part of a surface of a structural member, and a step of exposing the metal layer to a plasma based on SF6 to effect surface treatment.
申请公布号 US2005056351(A1) 申请公布日期 2005.03.17
申请号 US20040912123 申请日期 2004.08.06
申请人 CANON KABUSHIKI KAISHA 发明人 YAMADA TOMOHIRO;KURODA RYO
分类号 G03F1/14;B32B15/04;G03F1/48;G03F7/00;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F9/00 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人
主权项
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