| 摘要 |
【课题】于于使用微细图案形成材料以有实效性地微细化光阻图案的方法中，降低显像缺陷的发生，而且即使提高烘烤的温度，形成于光阻图案上的硬化被覆层的层厚也还是很薄，又且无关于烘烤的温度仍大略地维持在一定的厚度。【解决手段】在6英寸以上的基板1上形成由化学增幅型光阻所构成的光阻图案3，在此图案3上，涂布包含水溶性树脂、水溶性交联剂以及水或是水和水溶性有机溶剂之混合溶剂之微细图案形成材料，形成被覆层4之后，烘烤前述化学增幅型光阻图案和前述被覆层，在烘烤后藉由显像被覆层形成经微细化之图案。于此方法中，做为前述微细图案形成材料之前述水溶性树脂，使用于DSC曲线中融解尖峰温度比起于上述烘烤步骤中之烘烤温度还要更高，而且超过130℃的水溶性树脂以形成微细化之图案。 |
