发明名称 薄膜半导体元件,及薄膜半导体元件的制造方法
摘要 本发明的课题是在于提供一种可形成闸极电极的低电阻化,源极电极的电容器容量的低减,蚀刻性的提升之薄膜半导体元件及其制造方法。亦即,本发明之薄膜半导体元件,系于基板1上具备半导体膜5,及连接至该半导体膜5的源极/汲极电极24,23,及隔着绝缘膜6来配置于上述半导体膜5的闸极电极14,其特征为:上述源极/汲极电极24,23的膜厚比上述闸极电极14的膜厚更薄。
申请公布号 TW200510847 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW093119836 申请日期 2004.06.30
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 鬼塚达也
分类号 G02F1/133 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本