微影装置之校准方法及元件制造方法

摘要

一种校准方法包含：利用可个别控制元件阵列产生一图案；将一辐射感测器提供于基板平台；放射辐射以产生一图案影像于基板平台；移动彼此相对之该所生图案与基板平台至少一者，以相对于感测器而移动该影像；利用感测器侦测辐射强度；及根据所侦测之强度及可个别控制元件阵列与基板平台之位置而计算一校准，以建立可个别控制元件阵列座标系统之座标与基板平台座标系统之座标之间之关系。