| 摘要 |
一种微影投影装置包括一用于固持一基板或一光罩等使其穿过光束路径之一支撑台。该支撑台具有一支撑表面及一自支撑表面延伸的突出部分之阵列，以在突出部分上支撑基板等的后部。提供一侦测器以侦测影响基板等表面平坦度的该等突起部分中个别者之高度差。一位置选择性材料移除及／或添加器件经设置以当该基板台在该装置中为可操作时，在一移除器件具有足够移除力自个别突出部分移除部分突出部分材料之情况下，使得该器件独立地作用于该个别突出部分。一控制单元控制该材料移除及／或添加器件，以对应于该等突出部分中个别者分别所侦测到的高度差选择性地自该等突出部分之个别者移除适量材料及／或向该等突出部分之个别者添加适量材料。 |
