发明名称 液晶显示装置及其制造方法
摘要 本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法,其课题系针对减少知制造步骤数的制造方法中,当通道长度缩短时,制造余裕度(margin)变小而良率降低之情形而研发。本发明之解决手段系具备:藉由半色调(halftone)曝光技术的导入,将扫描线之形成步骤、与接触部分之形成步骤合理化的新颖技术;和藉由在知技术之源极.汲极配线的阳极氧化步骤,导入半色调曝光技术,以将电极端子之保护层形成步骤合理化的新颖技术;和利用与知同时形成画素电极和扫描线之合理化技术的技术组合,以构筑TN型液晶显示装置和IPS型液晶显示装置的4道光罩.制程(mask.process)、3道光罩.制程(mask.process)方案。
申请公布号 TW200510884 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW093109980 申请日期 2004.04.09
申请人 广辉电子股份有限公司;广辉电子日本股份有限公司 QUANTA DISPLAY JAPAN INC. 日本 发明人 川崎清弘
分类号 G02F1/1345 主分类号 G02F1/1345
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚二路189号