发明名称 | 应用于金属内连线制程的清洗方法 | ||
摘要 | 一种应用于金属内连线制程的清洗方法,此方法系首先提供一基底,其中基底上已形成有一导电层且导电层上已形成有一介电层。随后,在介电层中形成一开口,暴露出导电层。之后,再以硫酸与过氧化氢之一混合液清洗开口。由于本发明以硫酸与过氧化氢之混合液清洗开口可以有效的清除于残留于开口内之残留物,因此后续于开口内所形成接触窗,其电阻值可以明显获得改善。 | ||
申请公布号 | TW200511495 | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
申请号 | TW092124833 | 申请日期 | 2003.09.09 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 高世杰;黄志涛;陈逸男 |
分类号 | H01L21/768 | 主分类号 | H01L21/768 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |