成膜方法,配线图案的形成方法,半导体装置的制造方法,光电装置及电子机器

摘要

本发明的课题是在于提供一种可高率高生产性来形成高可靠度的膜之成膜方法。本发明的成膜方法，系于使形成于基材5上的复制层6复制于被处理材1上，藉此于该被处理材1上形成预定的膜，其特征包含：对上述被处理材1的表面进行藉由化学的相互作用来提高上述复制层6对该被处理材1的密着性的表面处理之过程。