抛光状态监控装置及使用该抛光状态监控装置之抛光装置

摘要

本发明提供一种能够容易地掌握抛光的进展之抛光状态监控装置。该抛光状态监控装置可经由在每一预定的时间间隔扫描一物体(12)被抛光的表面之同时于每一采样点取得指示该表面的状态之特性值而监测该被抛光的表面之抛光进展。该装置包括发光工具(21)，其能够发射光线以照射该表面，与计算单元(26)，用以接收从该表面反射出的光以产生一特性值。然后，该装置找取在每一次扫描中，于相同采样时机处，从诸采样点所得特性值并将该等特性值输出。此可促成根据从该表面的中心之距离来监控该抛光的进展。