发明名称 | 动态随机存取记忆体单元阵列及其制造方法 | ||
摘要 | 一种动态随机存取记忆体单元阵列,包含有至少两对闸极导线,系互相平行且沿一第一方向延伸,其中每一对闸极导线包含有一第一、第二闸极导线。一对位元线系沿一第二方向延伸且与该对闸极导线交错。一第一有效区域系沿该第一方向跨越该第一闸极导线对,且形成于该第一位元线上,一第二有效区域系沿该第一方向跨越该第二闸极导线对,且形成于该第二位元线上。每一个有效区域中包含有:一第一、第二深渠沟,系分别形成于该第一、第二闸极导线下方;一位元线接触,系形成于该第一、第二闸极导线之间,且与上方对应之该位元线形成电性连接;一共用源/汲极区域,系形成于该第一、第二闸极导线之间,且与该位元线接触形成电性连接;一第一垂直电晶体,系形成于该第一深渠沟之上方,且包含有一第一埋入带扩散区域形成于该第一深渠沟之一侧壁上;一第二垂直电晶体,系形成于该第二深渠沟之上方,且包含有一第二埋入带扩散区域形成于该第二深渠沟之一侧壁上。 | ||
申请公布号 | TW200511562 | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
申请号 | TW092124187 | 申请日期 | 2003.09.02 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 张明成;吴铁将;陈逸男;林正平 |
分类号 | H01L27/108;H01L21/8242 | 主分类号 | H01L27/108 |
代理机构 | 代理人 | 洪澄文;颜锦顺 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |