基板保持装置及研磨装置

摘要

一种基板保持装置，用于保持研磨装置中如半导体晶晶之基板(W)以研磨该基材至平坦磨光。基板保持装置包括可垂直移动构件(6)、以及用以界定室(22)的弹性构件(7)。该弹性构件(7)包括接触该基板(W)之接触部(8)、以及自该接触部(8)向上延伸并连接至该可垂直移动构件(6)之周围壁件(9)。该周围壁件(9)具有可垂直伸展收缩的可伸展收缩部(40)。