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发明名称
缺陷管理系统的方法
摘要
本发明提供一种缺陷管理系统的方法,包含进行机台匹配检验于一缺陷管理系统中,其至少包含扫描一生产晶圆;检视一使用层级于缺陷管理系统中,缺陷管理系统根据使用层级,分配缺陷管理系统的资源;编辑一分析过程模板,缺陷管理系统根据该分析过程模板,执行一分析过程;预滤缺陷数据,其根据至少一基准,此基准选自以下所组成族群之一:未分类与分类、缺陷类别、缺陷尺寸、影像种类、缺陷图案、与CP数据结合;及输出一结果报告,结果报告结合分析过程模板与缺陷数据。
申请公布号
TW200511467
申请公布日期
2005.03.16
申请号
TW092125148
申请日期
2003.09.12
申请人
上海宏力半导体制造有限公司 GRACE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CORPORATION 中国
发明人
林锦祥;江红;殷嘉杰
分类号
H01L21/66
主分类号
H01L21/66
代理机构
代理人
林火泉
主权项
地址
中国
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