| 发明名称 | 倒锥形抗蚀图案的形成方法 | ||
| 摘要 | 使用负性感光树脂组合物形成倒锥形抗蚀图案的方法，其特征在于负性感光树脂组合物包括(A)碱溶性树脂，该树脂由用通式(I)代表的羟甲基双酚化合物、醛和任选的苯酚化合物缩聚得到，(B)交联剂和(C)光致酸生成剂。本发明形成的图案为良好的倒锥形图形，在喷射法中，它可以成为抗蚀图案，并可以作为有机EL板的隔离层。 | ||
| 申请公布号 | CN1193268C | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
| 申请号 | CN01805988.0 | 申请日期 | 2001.03.06 |
| 申请人 | 克拉瑞特国际有限公司 | 发明人 | 小林聪 |
| 分类号 | G03F7/26;H01L21/027;H05B33/22;H05B33/14;H05B33/12 | 主分类号 | G03F7/26 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种形成倒锥形抗蚀图案的方法，包括步骤：(A)首先在基底上涂覆一种负性感光树脂组合物，其中负性感光树脂组合物包括碱溶性树脂，该树脂由通式(I)代表的羟甲基双酚化合物、苯酚类化合物和醛缩聚得到，其中，通式(I)的化合物和苯酚类化合物的重量比为从40∶60到100∶0，<img file="C018059880002C1.GIF" wi="1267" he="331" />其中R<sub>1</sub>到R<sub>4</sub>分别代表氢原子、C<sub>1</sub>到C<sub>3</sub>的烷基或-CH<sub>2</sub>OH，并且R<sub>1</sub>到R<sub>4</sub>中至少一个代表-CH<sub>2</sub>OH，以及R<sub>5</sub>和R<sub>6</sub>分别代表氢原子或C<sub>1</sub>到C<sub>3</sub>烷基，(B)然后预烘焙以形成光致抗蚀膜，(C)对该膜进行图案曝光，以及如有必要进行曝光后烘焙，和(D)用碱性显影剂使该膜显影，以形成倒锥形抗蚀图案。 | ||
| 地址 | 瑞士穆滕茨 | ||