发明名称 |
静电吸盘和处理装置 |
摘要 |
根据本发明,提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。 |
申请公布号 |
CN1595632A |
申请公布日期 |
2005.03.16 |
申请号 |
CN200410085563.1 |
申请日期 |
2000.05.25 |
申请人 |
东陶机器株式会社;株式会社爱发科 |
发明人 |
北林彻夫;堀裕明;内村健志;建野范昭;不破耕;前平谦 |
分类号 |
H01L21/68 |
主分类号 |
H01L21/68 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王忠忠 |
主权项 |
1.一种用于吸引绝缘基片的静电吸盘,其包括:绝缘层,所述绝缘层具有吸引绝缘基片的第一表面,和其上配置了多个电极的第二表面;其中,彼此相邻的所述电极之间的距离等于或大于0.5mm,小于或等于2mm,且其中调节彼此相邻的所述电极之间的距离和所述绝缘层的厚度,使得当在所述电极之间产生电位差时,形成通过梯度力吸引所述绝缘基片的不均匀电场。 |
地址 |
日本福冈县 |