发明名称 PLACA DE IMPRESION LITOGRAFICA CON ALTA RESISTENCIA A AGENTES QUIMICOS.
摘要 Un elemento en el que se puede formar una imagen, que comprende: (a) un sustrato, comprendiendo el sustrato una superficie hidrófila, (b) una capa inferior sobre la superficie hidrófila y (c) una capa superior sobre la capa inferior, en el que: la capa superior es receptora de tinta, la capa inferior es soluble en un revelador acuoso alcalino, la capa inferior comprende una combinación de por lo menos un primer material polimérico y un segundo material polimérico, la capa superior comprende un tercer material polimérico y el parámetro de resistencia química de la capa inferior es mayor que aproximadamente 0, 4.
申请公布号 ES2225283(T3) 申请公布日期 2005.03.16
申请号 ES20000984218T 申请日期 2000.12.12
申请人 KODAK POLYCHROME GRAPHICS COMPANY LTD. 发明人 SHIMAZU, KEN-ICHI;PATEL, JAYANTI;HUANG, JIANBING;MERCANT, NISHITH;JAREK, MATHIAS
分类号 G03F7/11;B41C1/10;B41N3/00;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/40;(IPC1-7):C08L35/00;C08L33/20 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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