发明名称 |
PLACA DE IMPRESION LITOGRAFICA CON ALTA RESISTENCIA A AGENTES QUIMICOS. |
摘要 |
Un elemento en el que se puede formar una imagen, que comprende: (a) un sustrato, comprendiendo el sustrato una superficie hidrófila, (b) una capa inferior sobre la superficie hidrófila y (c) una capa superior sobre la capa inferior, en el que: la capa superior es receptora de tinta, la capa inferior es soluble en un revelador acuoso alcalino, la capa inferior comprende una combinación de por lo menos un primer material polimérico y un segundo material polimérico, la capa superior comprende un tercer material polimérico y el parámetro de resistencia química de la capa inferior es mayor que aproximadamente 0, 4. |
申请公布号 |
ES2225283(T3) |
申请公布日期 |
2005.03.16 |
申请号 |
ES20000984218T |
申请日期 |
2000.12.12 |
申请人 |
KODAK POLYCHROME GRAPHICS COMPANY LTD. |
发明人 |
SHIMAZU, KEN-ICHI;PATEL, JAYANTI;HUANG, JIANBING;MERCANT, NISHITH;JAREK, MATHIAS |
分类号 |
G03F7/11;B41C1/10;B41N3/00;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/40;(IPC1-7):C08L35/00;C08L33/20 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|