INSTALACION PARA DEPOSICION DE PELICULAS DE CARBONO TIPO DIAMANTE SOBRE SUBSTRATOS DE ACERO O DE METAL ENDURECIDO Y EL CORRESPONDIENTE METODO IN SITU USANDO RECUBRIMIENTOS DUROS DE METAL/CARBURO DE ESE METAL COMO CAPAS INTERMEDIAS PARA EL MEJORAMIENTO DE LA ADHERENCIA ENTRE PELI.

摘要

Instalación para deposición de películas de carbono tipo diamante sobre substratos de acero o de metal endurecido "in situ" usando recubrimientos duros de metal/carburo de ese metal como capas intermedias para el mejoramiento de la adherencia entre películas y substrato. La invención está relacionada con un método de deposición "in situ" de multicapas de recubrimientos duros de W/WC/DLC (tungsteno/carburo de tungsteno/carbono tipo diamante) por el método PVD (Physical Vapor Deposition) de pulverización catódica reactiva asistida por campo magnético (magnetrón sputtering), a partir de un sólo blanco binario de forma circular mitad tungsteno (99.99%) y mitad de carbono (99.99%). La deposición de las multicapas de W/WC/DLC a partir de este blanco binario único se obtiene con variación gradual del porcentaje de CH4 (Metano) en la mezcla Ar/CH4 (Argón/Metano) que se introduce en la cámara donde se genera el plasma de la descarga luminiscente que da lugar a la deposición de las multicapas. Este método produce un mejoramiento de la adherencia del DLC a los substratos de aceros al usar las películas de W/WC como capas intermedias.