发明名称 |
熔体扩散法制备近化学比铌酸锂晶片的工艺 |
摘要 |
本发明涉及一种对同成分铌酸锂晶片进行锂离子的扩散处理,特别是涉及提高铌酸锂中锂离子的浓度的工艺,以使晶片成为高锂浓度的近化学比铌酸锂晶片。本发明的技术方案是将同成分铌酸锂晶片置入坩埚中,用适量锂离子晶体粉末及钾离子晶体粉末将晶片覆盖,使离子晶体粉末熔化,熔液中,钾离子与锂离子数量比在0.2-0.5。并在熔融温度(1000-1200度)恒温1-200小时。随后,降温至室温,通过液体清洗和抛光,清理掉附着在晶片上的离子晶体残留物,最终获得高锂浓度的近化学比铌酸锂晶片,本工艺相对VTE来说,更为简单方便,更为经济。 |
申请公布号 |
CN1594169A |
申请公布日期 |
2005.03.16 |
申请号 |
CN200410019723.2 |
申请日期 |
2004.06.21 |
申请人 |
南开大学 |
发明人 |
孙骞;崔国新;李玉栋;陆文强;许京军;孔勇发;黄子恒 |
分类号 |
C03C21/00 |
主分类号 |
C03C21/00 |
代理机构 |
天津市学苑有限责任专利代理事务所 |
代理人 |
解松凡 |
主权项 |
1.一种熔体扩散法制备近化学比铌酸锂晶片的工艺,其特征在于它包括下述步骤:1)将同成分铌酸锂晶片置入坩埚中;2)用锂离子晶体和钾离子晶体的粉末混合物将晶片覆盖;3)加热坩埚至1000-1200度的温度范围内,这时离子晶体粉末混合物熔化,锂离子从熔融的离子晶体液态混合物中向铌酸锂晶体中扩散,通过1-200小时的处理,提高铌酸锂中锂的浓度;4)降温至室温;5)通过液体清洗或抛光,清理附着在晶片上的离子晶体残留物,最终获得近化学比铌酸锂晶片,晶片中锂与铌的原子个数比在49.5∶50.5-50.0∶50.0。 |
地址 |
300071天津市卫津路94号 |