发明名称 | 记录介质、记录装置以及记录方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种具有多个电荷积聚区和光电导区的记录介质,其中的每个电荷积聚区含能够积聚电荷的第一种材料,其中的光电导区含由于吸收光而使导电率增加的第二种材料。提供了一种包括这种记录介质的记录装置以及在这种记录介质上记录信息的记录方法。在本发明中,通过用光辐照光电导区,并且通过有光辐照光的电导区的那部分将电荷注入所述电荷积聚区,而将信息记录在所述记录介质上。 | ||
申请公布号 | CN1193364C | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
申请号 | CN00135309.8 | 申请日期 | 2000.09.29 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 内藤胜之;稗田泰之 |
分类号 | G11B9/08 | 主分类号 | G11B9/08 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 段承恩 |
主权项 | 1.一种记录介质,包括:基底;位于基底上并具有多个电荷积聚区的记录层,其中的每个电荷积聚区含能够积聚电荷的第一种材料;在记录层上形成的并具有光电导区的光电导层,其中光电导区含由于吸收光而使导电率增加的第二种材料;以及所述的记录层还包括至少一个电绝缘区,该电绝缘区使所述的多个电荷积聚区彼此之间电绝缘。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |