光干涉式显示单元结构及制造方法

摘要

一种光干涉式显示单元结构及制造方法，该光干涉式显示结构具有一第一电极、一第二电极，其中第二电极包括一第一材料层及一第二材料层。一支撑结构位于第一电极与第二电极之间以形成一腔室，其中，该第一材料层与该第二材料层至少其中之一由一导电材料所形成，且第二材料层作为蚀刻第一材料层的罩幕层。上述光干涉式显示结构的制造方法形成第一材料层及一第二材料层作为第二电极之用。利用微影蚀刻制程将一光阻图案转移到第二材料层之上，移除光阻层后，再以图案化的第二材料层为罩幕蚀刻第一材料层而定义出第二电极，如此可避免支撑结构在移除光阻层时受到伤害。

主权项

1、一种光干涉式显示单元结构，其特征在于，至少包含：一第一电极；一第二电极，该第二电极至少包括：一第一材料层；以及一第二材料层；以及一支撑结构位于该第一电极与该第二电极之间以形成一腔室；其中，该第一材料层与该第二材料层至少其中之一由一导电材料所形成，且该第二材料层作为蚀刻该第一材料层的罩幕层。