发明名称 用于制造埃级和大纵横比的功能性薄片的方法
摘要 一种用来经济地、高生产率地制造较功能性的或装饰性的薄片的方法,包括将气相沉积金属的多层夹层和处于交替层中的释放涂层施加到气相沉积室内的转动激冷鼓或者合适载体介质中。该交替金属化层借助于气相沉积来施加,插入释放层最好是溶剂可以溶解的热塑性或另外交联的聚合体材料,该材料借助于装在气相沉积室内的气相沉积源来施加。形成在真空室内的多层夹层可以从鼓上或者载体中拆下来,并且用合适的无机溶剂处理,从而在剥离过程中从金属中溶解出释放涂料,而该剥离过程留下了基本没有释放涂层的金属薄片。然后,借助于离心作用除去该溶剂和可溶解的释放材料,从而形成一浓缩片的饼状物,该浓缩片可以进行空气研磨(airmilled)并且在优选的溶媒中稀释、进一步进行定尺寸和搅匀,从而最后使用在墨水、颜料或者涂料中。在一个实施例中,最终的薄片包括单层薄金属或金属合金薄片或无机材料薄片,而在另一个实施例中,薄片的两侧上涂有保护性聚合体涂层,所述保护性聚合体涂层是从包含在气相沉积室中的适合的真空沉积源等中被施加的。释放涂层材料可为具有低交联密度的可辐射固化、可交联气相沉积的聚合体材料。暴露于高能辐射源充分地交联释放材料以产生基本无粘性的、溶剂可溶解的释放涂层。在一个实施例中,在从气相沉积室穿过真空闸到独立的相邻剥离室中的环带上形成多层气相沉积层。两个室都保持在低于大气压力的真空压力下,同时将薄片材料沉积在环带上。通过降低带速度、空转沉积室中的真空沉积源、以及通过剥离室中环带下面的真空闸将气相沉积收集装置密封于剥离室而周期性地去除气相沉积层。在从环带上去除多层气相沉积材料的过程中,真空闸将剥离室保持在低于大气压力的其真空压力下。
申请公布号 CN1596322A 申请公布日期 2005.03.16
申请号 CN02823725.0 申请日期 2002.11.27
申请人 艾弗里·丹尼森公司 发明人 卡尔·约瑟夫;詹姆斯·P·雷特克;霍华德·H·恩洛
分类号 C23C14/00;C23C14/24;C23C16/00;B01J2/24 主分类号 C23C14/00
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 董敏
主权项 1.一种用来形成多层气相沉积薄片材料的方法,它包括:(a)提供具有真空沉积室和相邻剥离室的气相沉积设备,其中每个腔室中的真空远离可独立控制;(b)使得环带形式的沉积表面穿过气相沉积室和剥离室;(c)在气相沉积室中,使得蒸发的聚合体释放涂层材料和薄片材料的气相沉积层以交替层的形式在真空压力下沉积在沉积表面上,以便于在沉积表面上相继形成由相应的插入释放涂层隔开并沉积在其上的薄片材料的多层气相沉积层,在连续的所述气相沉积层被沉积在沉积表面上时,沉积表面上的多层气相沉积层穿过剥离室;以及(d)在剥离室中,当气相沉积室中的薄片材料的气相沉积层和释放涂层材料处于空闲状态时,移除多层气相沉积层,当剥离室被保持在低于大气压力下的真空压力时从沉积表面上去除所述多层气相沉积层。
地址 美国加利福尼亚州