发明名称 | 等离子聚合装置中的供气和排气系统 | ||
摘要 | 本发明提供了一种等离子聚合装置,其包括至少一个室,在该室中要涂布的片可以连续移动;至少一个向该室供应反应性气体的气体入口;和至少一个将反应性气体排出该室的气体出口,其中气体入口和气体出口以这样的方式设置在室上,即反应性气体的流动方向基本上与板的移动方向平行。 | ||
申请公布号 | CN1193114C | 申请公布日期 | 2005.03.16 |
申请号 | CN01806109.5 | 申请日期 | 2001.03.02 |
申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 郑永万;李守源;尹东植 |
分类号 | C23C16/54 | 主分类号 | C23C16/54 |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 丁业平;王维玉 |
主权项 | 1.一种用于等离子聚合装置的供气和排气系统,在所述聚合装置中基材连续移动,该系统包括:气体入口,用于向聚合室供应气体,和气体出口,用于排出经气体入口供应的反应性气体,其中气体入口和气体出口以这样的一种方式设置,即,使反应性气体的流动与基材的移动方向平行,以及聚合室包括许多室,且至少一个室设置在垂直于聚合室中基材流动的方向上。 | ||
地址 | 韩国汉城 |