发明名称 Isotopically pure silicon-on-insulator wafers and method of making same
摘要 The present invention provides improved semiconductor wafer structures having isotopically-enriched layers and methods of making the same.
申请公布号 US6867459(B2) 申请公布日期 2005.03.15
申请号 US20020189732 申请日期 2002.07.03
申请人 ISONICS CORPORATION 发明人 BURDEN STEPHEN J.
分类号 C30B19/00;C30B23/02;C30B25/02;H01L21/20;H01L21/762;H01L29/16;H01L29/20;H01L33/64;(IPC1-7):H01L27/01 主分类号 C30B19/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利