| 主权项 |
1.一种溅射装置,系使用具有大致呈圆板状之形状 的基板,在真空容器中进行将膜形成在前述基板之 表面上,其特征为,具有: 由应形成之膜的主要构成元素所形成之标靶; 以表面维持标靶之背板; 维持基板而使基板表面正对于前述标靶之基板固 定座; 分别覆盖前述基板之外围部及中央部之外部遮罩 与内部遮罩; 前述内部遮罩系,贯通设在标靶之贯通孔,同时与 配置在前述背板上可进行旋转与直线运动之轴承 所支撑的滑轴连通、且为其所支撑,同时,藉由配 置在前述背板之弹推手段,经由滑轴在基板之中央 部伴随指定之负荷而抵接。 2.如申请专利范围第1项之溅射装置,其中,前述弹 推装置系由弹簧所形成,其系被配置在与前述滑销 之前述内部遮罩连通端部不同的端部上。 3.如申请专利范围第1项之溅射装置,其中,前述滑 轴在与前述内部遮罩之间的连通部分中,具有由绝 缘材料所形成之部分。 4.如申请专利范围第1项之溅射装置,其中,前述弹 推手段系藉由滑动轴承而弹推前述滑轴。 5.如申请专利范围第1项之溅射装置,其中,前述背 板系由前述标靶之表面突出,且在正对于前述基板 中央之位置上具有设置仅些许大于滑轴直径之内 径之孔的收容室,在前述收容室中收容有较前述孔 为更朝基板方向突出之滑轴、前述轴承、以及前 述弹推手段。 6.一种薄膜形成方法,在具有大致呈圆板型之基板 上形成薄膜的方法中,其特征为: 配置由前述薄膜之主要构成材料所形成之标靶; 正对于前述标靶,将前述基板固定在可绕着指定轴 周围旋转之固定座上; 以指定轴作为中心经由设在前述标靶之贯通孔,使 连结由前述标靶里面延伸至前述标靶表面之轴构 件的内部遮罩抵接于前述基板之中央部之指定区 域; 在基板与标靶之间产生电浆; 以前述电浆中之离子溅射前述标靶表面; 将前述标靶之成分为主要构成元素之薄膜堆积在 前述基板表面; 前述内部遮罩随着指定之负荷抵接至前述基板上, 且在进行薄膜之堆积时连同前述基板使前述内部 遮罩以前述指定轴为中心旋转。 7.一种碟片状记录媒体之制造方法,系形成碟片状 记录媒体之特定膜,其特征为: 配置由前述特定膜的主要构成材料形成之标靶; 正对于前述标靶,将大致呈圆板状之基板固定在可 于指定轴旋转之固定座上; 以前述指定轴为中心而藉设于前述标靶之贯通孔, 使连结由前述标靶里面延伸至前述标靶表面之轴 构件的内部遮罩抵接于前述基板之中央部之指定 区域; 在前述基板与前述标靶之间产生电浆; 以前述电浆中之离子溅射前述标靶表面; 使前述指定膜堆积在前述基板表面, 前述内部遮罩随着指定之负荷抵接至前述基板上, 且在进行前述薄膜之堆积时连同前述基板以前述 指定轴为中心旋转前述内部遮罩。 图式简单说明: 第1图系在有关本发明中之第1实施例之溅射装置, 而显示出在其断面图中之局部概略构成图。 第2图系在有关本发明中之第2实施例之溅射装置, 而显示出在其断面图中之局部概略构成图。 |
