| 主权项 |
1.一种记录立体全像片于记录介质之系统,包括: 一来源影像显示片,包含经傅立叶转换之多个像素 ; 一雷射光源,置于该显示片的一侧,俾用以照射该 显示片,产生影像光束; 一透镜系统,置于该显示用的另一侧,俾用以将该 影像光束聚焦于记录介质;该透镜系统包含反转傅 立叶转换透镜。 2.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该显示片 为一液晶显示面板。 3.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该透镜系 统及该记录介质间摆置第一光罩;该第一光罩包含 一狭缝,俾用以限制传递至该记录介质之绕射光波 的阶数。 4.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该透镜系 统及该记录介质间摆置第二光罩;该第二光罩包含 一狭缝,俾用以限制于该记录介质上的记录宽度。 5.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该来源影 像在经过傅立叶转换计算之前,已于该来源影像像 素乘以一随机相位变化。 6.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该透镜系 统包含一球状透镜及柱状透镜之远心光学系统。 7.一种记录立体全像片于记录介质的系统,包括: 一显示来源影像之液晶显示面板,可显示经傅立叶 转换之复数像数;显示于该液晶显示面板上的像素 ,在经过傅立叶转换计算之前,已于影像像素乘以 一随机相位变化; 一雷射光源,俾用以照射该液晶显示面板; 一透镜,置于该液晶显示面板与记录介质之间,俾 用以执行反转傅立叶转换; 第一光罩,置于该透镜及记录介质间,包含一狭缝, 俾用以限制传递至该记录介质之绕射光波的阶数; 一透镜系统,置于该透镜及该记录介质之间,俾用 以将影像聚焦于该记录介质;该透镜系统包含反转 傅立叶转换之透镜; 第二道光罩,置于该透镜系统及该记录介质间,包 含一狭缝,俾用以限制于该记录介质上的记录宽度 。 8.一种立体全像片,包括: 多数影像片段,其每一影像片段系由多数来源影像 像素,经傅立叶转换后所形成; 该每一影像片段包含多数记录像素,该多数记录像 素是同时被记录的;以及 一群该影像片段,系对应于一影像的同一位置之不 同视角的影像。 9.如申请专利范围第8项所述之立体全像片,其中该 来源影像像素在经傅立叶转换计算前已乘以一随 机之相位变化。 10.一种记录立体全像片于记录介质之方法,包括如 下步骤: 提供一来源影像之显示片,该来源影像包含利用傅 立叶转换表现之多数像素; 利用雷射光源照射该显示片; 利用全像透镜绕射该来源影像; 对来源影像执行反转傅立叶转换;以及 利用包含反转傅立叶转换透镜之透镜系统,聚焦影 像于记录介质上。 11.如申请专利范围第10项所述之方法,进一步包括: 使用含狭缝的第一光罩来限制由该显示片传递而 来的多阶绕射光。 12.如申请专利范围第10项所述之方法,进一步包含: 使用含狭缝的第二光罩来限制记录于该记录介质 上的记录宽度。 13.如申请专利范围第10项所述之方法,进一步包含: 于执行傅立叶转换计算前,对该来源影像像素已乘 以一随机之相位变化。 图式简单说明: 图1为一使用者观赏全像片示意图。 图2(a)及2(b)为已知技术产生立体全像片示意图。 图3(a)及3(b)为已知技术制作二个视角以上之立体 全像片方法示意图。 图4为本发明提出之记录立体全像片示意图。 图5(a)及5(b)为应用本发明之原理(如图四)产生立体 全像片之光学系统的上视及侧视图。 |
