| 主权项 |
1.一种供形成薄膜用之涂覆溶液,其包含以下(A)及( B): (A)一种骨干链上含有芳香环之聚合物,及 (B)两种以上之有机溶剂, 其中该两种以上有机溶剂(B)之沸点中最高沸点及 最低沸点之间的差异系20℃或更多,且其中该聚合 物(A)在两种以上有机溶剂(B)所组成的混合溶剂中 之溶解度为15%或更高。 2.一种供形成薄膜用之涂覆溶液,其包含以下(A)及( C): (A)一种骨干链上含有芳香环之聚合物,及 (C)苯基醚类。 3.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中(C)系一种一烷氧基苯衍生物或一种二烷氧 基苯衍生物其在低于大气压力之下具有240℃或更 低之沸点。 4.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中(C)系选自苯甲醚、苯乙醚及甲氧基甲苯。 5.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中该涂覆溶液还包含以下成份(D)当作除了(A) 及(C)以外之必要成份: (D)一种有机溶剂其在大气压力之下20℃时具有1.0cP 或更低之黏度。 6.如申请专利范围第1项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中成份(B)包含脂环族醚类。 7.如申请专利范围第5项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中成份(D)包含脂环族醚类。 8.如申请专利范围第1项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中在骨干链含芳香环之聚合物具有一种醚链 。 9.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其中在骨干链含芳香环之聚合物具有一种醚链 。 10.如申请专利范围第1项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其系用于制造一种绝缘膜。 11.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其系用于制造一种绝缘膜。 12.如申请专利范围第1项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其系用于制造一种光阻蚀刻膜。 13.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其系用于制造一种光阻蚀刻膜。 14.如申请专利范围第1项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其系用于制造一种钝性膜。 15.如申请专利范围第2项之供形成薄膜用之涂覆溶 液,其系用于制造一种钝性膜。 |
