PROCEDE DE DEPOT D'UNE COUCHE AMORPHE CONTENANT MAJORITAIREMENT DU FLUOR ET DU CARBONE ET DISPOSITIF CONVENANT A SA MISE EN OEUVRE

摘要

L'invention a pour objet un procédé de dépôt sous vide d'une couche amorphe contenant majoritairement du fluor et du carbone sur un substrat (9), caractérisé en ce qu'il comporte l'étape de dépôt de cette couche au moyen d'un canon à ions (1) propre à éjecter des ions sous forme d'un faisceau d'ions accélérés créé à partir d'au moins un composé contenant du fluor et du carbone sous forme gazeuse ou de vapeur saturante alimentant le canon à ions.Un tel procédé permet notamment d'améliorer l'adhérence d'une couche extérieure à bas indice de réfraction sur la couche sous-jacente d'un empilement anti-reflets.L'invention a également trait à un dispositif convenant à la mise en oeuvre de ce procédé.