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发明名称 Reticle for photolithography
摘要
申请公布号 KR100472721(B1) 申请公布日期 2005.03.10
申请号 KR20020042272 申请日期 2002.07.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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