发明名称 缺陷管理系统的方法
摘要 本发明提供一种缺陷管理系统的方法,包含进行机台匹配检验于一缺陷管理系统中,其至少包含扫描一生产晶片;检视一使用层级于缺陷管理系统中,缺陷管理系统根据使用层级,分配缺陷管理系统的资源;编辑一分析过程模板,缺陷管理系统根据该分析过程模板,执行一分析过程;预滤缺陷数据,其根据至少一基准,此基准选自以下所组成族群之一:未分类与分类、缺陷类别、缺陷尺寸、影像种类、缺陷图案、与CP数据结合;及输出一结果报告,结果报告结合分析过程模板与缺陷数据。
申请公布号 CN1591811A 申请公布日期 2005.03.09
申请号 CN03150606.2 申请日期 2003.08.27
申请人 上海宏力半导体制造有限公司 发明人 林锦祥;江红;殷嘉杰
分类号 H01L21/66;G01R31/28;G06F11/22 主分类号 H01L21/66
代理机构 上海光华专利事务所 代理人 余明伟
主权项 1、一种缺陷管理系统的方法,其特征在于,该方法包含:进行机台匹配检验于一缺陷管理系统中,该进行步骤至少包含扫描一生产晶片;检视一使用层级于该缺陷管理系统中,该缺陷管理系统根据该使用层级,分配该缺陷管理系统的资源;编辑一分析过程模板,该缺陷管理系统根据该分析过程模板,执行一分析过程;预滤复数个缺陷数据,该预滤步骤根据至少一基准,该基准选自以下所组成族群之一:未分类与分类、缺陷类别、缺陷尺寸、影像种类、缺陷图案、与CP数据结合;及输出一结果报告,该结果报告结合该分析过程模板与该复数个缺陷数据。
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