发明名称 |
缺陷管理系统的方法 |
摘要 |
本发明提供一种缺陷管理系统的方法,包含进行机台匹配检验于一缺陷管理系统中,其至少包含扫描一生产晶片;检视一使用层级于缺陷管理系统中,缺陷管理系统根据使用层级,分配缺陷管理系统的资源;编辑一分析过程模板,缺陷管理系统根据该分析过程模板,执行一分析过程;预滤缺陷数据,其根据至少一基准,此基准选自以下所组成族群之一:未分类与分类、缺陷类别、缺陷尺寸、影像种类、缺陷图案、与CP数据结合;及输出一结果报告,结果报告结合分析过程模板与缺陷数据。 |
申请公布号 |
CN1591811A |
申请公布日期 |
2005.03.09 |
申请号 |
CN03150606.2 |
申请日期 |
2003.08.27 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
林锦祥;江红;殷嘉杰 |
分类号 |
H01L21/66;G01R31/28;G06F11/22 |
主分类号 |
H01L21/66 |
代理机构 |
上海光华专利事务所 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
1、一种缺陷管理系统的方法,其特征在于,该方法包含:进行机台匹配检验于一缺陷管理系统中,该进行步骤至少包含扫描一生产晶片;检视一使用层级于该缺陷管理系统中,该缺陷管理系统根据该使用层级,分配该缺陷管理系统的资源;编辑一分析过程模板,该缺陷管理系统根据该分析过程模板,执行一分析过程;预滤复数个缺陷数据,该预滤步骤根据至少一基准,该基准选自以下所组成族群之一:未分类与分类、缺陷类别、缺陷尺寸、影像种类、缺陷图案、与CP数据结合;及输出一结果报告,该结果报告结合该分析过程模板与该复数个缺陷数据。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号 |