发明名称 感光绝缘膏和厚膜多层电路基片
摘要 本发明提供了一种感光绝缘膏,它包含含有硼硅玻璃粉末的绝缘材料。绝缘材料设置在感光有机载体中,并且硼硅玻璃粉末含有SiO<SUB>2</SUB>,B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>和K<SUB>2</SUB>O,从而由(SiO<SUB>2</SUB>,B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>,K<SUB>2</SUB>O)表示的三种成分的重量成分比落入通过连接三元图中的点A(65,35,0),B(j65,25,10),C(85,5,10)和D(85,15,0)形成的区域中。本发明还揭示了含有粘膏的厚膜多层电路基片基片。
申请公布号 CN1192283C 申请公布日期 2005.03.09
申请号 CN00101903.1 申请日期 2000.01.27
申请人 株式会社村田制作所 发明人 户濑诚人;川上弘伦;渡边静晴;伊波道明
分类号 G03F7/004;H01B3/00;H05K1/09 主分类号 G03F7/004
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈亮
主权项 1.一种感光绝缘膏,包含设置在感光有机载体中的绝缘材料,其特征在于绝缘材料含有包含SiO2,B2O3和K2O的硼硅玻璃粉末,其中由(SiO2,B2O3,K2O)表示的三种成份的成份比落入通过连接三元图中的点A(65,35,0)、B(65,25,10)、C(85,5,10)和D(85,15,0)形成的区域内。
地址 日本京都府