| 发明名称 | 化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了化学机械抛光垫。该垫含有水不溶性基质和分散于该水不溶性基质材料中的水溶性颗粒，并具有抛光表面和该抛光表面反面上的非抛光表面，该垫具有透光区域，它从抛光表面到非抛光表面是光学相通的。该透光区域的非抛光表面具有10μm或更小的表面粗糙度(Ra)。 | ||
| 申请公布号 | CN1590026A | 申请公布日期 | 2005.03.09 |
| 申请号 | CN200410064056.X | 申请日期 | 2004.07.16 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 志保浩司;保坂幸生;长谷川亨;川桥信夫 |
| 分类号 | B24B37/04;B24B49/12 | 主分类号 | B24B37/04 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;孟凡宏 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光垫，包含水不溶性基质和分散于该水不溶性基质材料中的水溶性颗粒并且具有抛光表面和抛光表面反面上的非抛光表面，其中，该垫有透光区域，其从抛光表面到非抛光表面是光学相通的，且该透光区域的非抛光表面的表面粗糙度(Ra)为10μm或更小。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||