发明名称 配备了具有微凹凸图案的树脂薄膜的光学元件的制造方法
摘要 一种光学元件的制造方法。该光学元件具有能够以优良的加工精度而形成的各种三维形状的并可实现薄膜化的微凹凸图案。该制造方法的特征在于,由以下工序组成:第1工序,把由感光性树脂形成的树脂薄膜(4)涂敷在基板(5)上;第2工序,使用光刻法在树脂薄膜(4)的一部分上形成材质变性部(4a);第3工序,把树脂薄膜(4)的温度控制成小于感光性消失温度或者小于感光性树脂(4)的固化反应开始温度;第4工序,在使树脂薄膜(4)软化或熔融的状态下,使用具有微凹凸图案的压模(33)在树脂薄膜的表面按压形成第1微凹凸图案(40);第5工序,通过去除材质变性部(4a),在树脂薄膜(4)的一部分上形成第2微凹凸图案(37)。
申请公布号 CN1591047A 申请公布日期 2005.03.09
申请号 CN200410057079.8 申请日期 2004.08.30
申请人 欧姆龙株式会社 发明人 池田正哲;青山茂
分类号 G02B5/08;G02F1/1335 主分类号 G02B5/08
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 李辉
主权项 1.一种光学元件的制造方法,该光学元件具有形成了微凹凸图案的树脂薄膜,其特征在于,该制造方法由以下工序组成:第1工序,把由感光性树脂形成的树脂薄膜涂敷在基板上;第2工序,使用光刻法在上述树脂薄膜的一部分上形成材质变性部;第3工序,把上述树脂薄膜的温度控制成小于感光性消失温度或者小于上述感光性树脂的固化反应开始温度;第4工序,在使上述树脂薄膜软化或熔融的状态下,使用具有微凹凸图案的压模在上述树脂薄膜的表面按压形成第1微凹凸图案;以及第5工序,通过去除上述材质变性部,在上述树脂薄膜的一部分上形成第2微凹凸图案。
地址 日本京都府京都市