发明名称 | 场响应增强的磁元件及其制造方法 | ||
摘要 | 一个改善的和新的器件和一个磁元件的制造方法,更特别地,一个磁元件(10)包括一第一电极(14),一第二电极(18),和一个隔离层(16)。第一电极(14)包括一个固定的铁磁层(26)。一第二电极(18)包括一个自由的铁磁层(28)。一个隔离层(16)位于固定的铁磁层(26)和自由的铁磁层(28)之间,隔离层(16)。至少一个附加层(20&22)被提供在底部金属层(13)和隔离层(16)之间。底部金属层(13)或者位于底部金属层(13)和隔离层(16)之间的至少一个层具有一个X射线非晶体结构,以使在自由铁磁层(28)和固定铁磁层(26)之间的拓扑耦合强度可以被减少。 | ||
申请公布号 | CN1192392C | 申请公布日期 | 2005.03.09 |
申请号 | CN00131625.7 | 申请日期 | 2000.10.20 |
申请人 | 自由度半导体公司 | 发明人 | 乔·斯劳特;经·世;尤金·陈;塞德·蒂兰尼 |
分类号 | G11C11/15;H01F10/08 | 主分类号 | G11C11/15 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
主权项 | 1.一个磁元件,其特征是:一个底部金属(13)层,具有一上表面;一第一电极(14),被放置在底部金属层的上表面,第一电极包括一个铁磁层(26);一第二电极(18),被放置在与第一电极隔开的位置,第二电极包括一个铁磁层(28);其中,第一电极和第二电极的铁磁层组合地包括一个固定的铁磁层(26)和一个自由的铁磁层(28),在出现了能够切换自由层的一个外加磁场时,固定的铁磁层的磁化被固定在一个优选方向上,并且在出现了一个外加磁场时,自由铁磁层具有能够在磁化状态之间自由旋转的一个磁化;一个隔离层(16),位于第一电极的铁磁层和第二电极的铁磁层之间;其中在隔离层下面所形成的一层是一个X射线非晶体结构,以使在自由铁磁层和固定铁磁层之间的拓扑耦合强度可以被减少;和一个衬底(12),底部金属层、第一和第二电极、和隔离层均被形成在衬底上。 | ||
地址 | 美国得克萨斯 |