成膜方法、配线图案的形成方法、半导体装置的制造方法

摘要

本发明提供了一种高效率、高生产性能，可形成高信赖性膜的成膜方法。本发明的成膜方法，其特征在于，在通过将基体材料(5)上形成的转印层(6)转印在被处理材料(1)上，该被处理材料(1)上形成所定膜的成膜方法中，包括对被处理材料(1)的表面，利用化学的相互作用，提高上述转印层(6)对该处理材料(1)密接性的表面处理工序。

主权项

1.一种成膜方法，是在通过将基体材料上形成的转印层转印在被处理材料上，在该被处理材料上形成所定膜的成膜方法，其特征在于，包括：对上述被处理材料的表面，通过化学的相互作用，提高上述转印层对该被处理材料的密接性的表面处理工序。