| 发明名称 | 正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 | ||
| 摘要 | 一种可以在分辨率、LER降低和缺陷水平降低方面得到改进的正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法。该组合物和方法提供：一种包含树脂组分(A)的正型光刻胶组合物以及一种使用这种组合物形成光刻胶图案的方法，所述的树脂组分(A)含有由下面所示的通式(1)表示的衍生自(α－甲基)羟基苯乙烯的结构单元(a1)和由下面所示的通式(2)表示的结构单元(a2)，其中组分(A)在2.38重量％的TMAH(氢氧化四甲铵)的水溶液中的溶解速率为100至1000/秒：(其中在通式(1)和(2)中，R表示氢原子或甲基)。 | ||
| 申请公布号 | CN1591185A | 申请公布日期 | 2005.03.09 |
| 申请号 | CN200410068341.9 | 申请日期 | 2004.08.31 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 新田和行;大久保和喜;嶋谷聪 |
| 分类号 | G03F7/022;G03F7/004 | 主分类号 | G03F7/022 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春琦 |
| 主权项 | 1.一种包含树脂组分(A)的正型光刻胶组合物，所述的树脂组分(A)含有由下面所示的通式(1)表示的衍生自(α-甲基)羟基苯乙烯的结构单元(a1)和由下面所示的通式(2)表示的结构单元(a2)：<img file="A2004100683410002C1.GIF" wi="577" he="441" />(其中，R表示氢原子或甲基)，<img file="A2004100683410002C2.GIF" wi="553" he="415" />(其中，R表示氢原子或甲基)，其中所述组分(A)在2.38重量％的TMAH(氢氧化四甲铵)的水溶液中的溶解速率为100至1000/秒。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||