发明名称 METHOD OF MANUFACTURING TRANSISTOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING ENHANCED GATE ELECTRODE STRUCTURE FOR SIMPLIFYING MANUFACTURING PROCESSES AND IMPROVING PRODUCTIVITY
摘要
申请公布号 KR100476877(B1) 申请公布日期 2005.03.07
申请号 KR19970052402 申请日期 1997.10.13
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 JUN, HYEONG JUNG
分类号 H01L21/335;(IPC1-7):H01L21/335 主分类号 H01L21/335
代理机构 代理人
主权项
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