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发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION OF MULTI-METALLIC PRECURSORS
摘要
申请公布号 KR20050020759(A) 申请公布日期 2005.03.04
申请号 KR20047013468 申请日期 2004.08.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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