发明名称 |
全息底片过曝光的挽救方法 |
摘要 |
一种全息底片过曝光的挽救方法,该方法包括以下四个步骤:在暗室中,将含有全息图的过曝光底片的乳剂面和一未感光的底片非乳剂面重叠,并压在两块干净的玻璃板之间;将上述重叠的底片用不同的曝光时间曝光,通常是1秒钟至5秒钟,曝光5张底片形成再生的全息底片;将上述再生的全息图底片显影、定影后晾干;从再生全息图中选择出一张曝光量合适的底片,进行光学重构或数字重构,可以获得较清晰的全息图重构像。 |
申请公布号 |
CN1588239A |
申请公布日期 |
2005.03.02 |
申请号 |
CN200410066392.8 |
申请日期 |
2004.09.15 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
陈建文;高鸿奕;徐至展 |
分类号 |
G03H1/04;G03H1/22;G03H1/00 |
主分类号 |
G03H1/04 |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 |
代理人 |
张泽纯 |
主权项 |
1、一种全息底片过曝光的挽救方法,其特征在于该方法包括以下四个步骤:1)在暗室中,将含有全息图的过曝光底片的乳剂面和一未感光的底片非乳剂面重叠,并压在两块干净的玻璃板之间;2)将上述重叠的底片用不同的曝光时间曝光,通常是1秒钟至5秒钟,曝光5张底片形成再生的全息底片;3)将上述再生的全息图底片显影、定影后晾干;4)从再生全息图中选择出一张曝光量合适的底片,进行光学重构或数字重构,就可以获得清晰的全息图重构像。 |
地址 |
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