一种透明导电薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种新的透明导电薄膜及其制备方法。该薄膜以氧化铟为主氧化物，以六价元素钼或钨为掺杂元素。制备时，在玻璃基板上先镀一层氧化铟作为防扩散阻挡层，然后掺杂，控制掺杂元素的掺入量，制得透明导电薄膜氧化铟钼(钨)。该薄膜具有良好的导电性能，制备工艺也简单。

主权项

1.一种透明导电薄膜的制备方法，以玻璃为基板，其特征在于用真空镀膜法，先在基板上镀一层氧化铟薄膜作为防扩散阻挡层，其厚度为30-50nm，然后掺杂，控制掺杂元素X的掺入量为薄膜中氧化铟总重量的3-5％，制得透明导电薄膜In2O3:X，这里X为Mo或W，其中沉积速率和薄膜的厚度采用光干涉法在线实时监控。