发明名称 | 多堆叠光学数据存储介质和这种介质的使用 | ||
摘要 | 描述了一种用于通过聚焦激光束(30)可重写地进行记录的多堆叠光学数据存储介质(20),所述介质(20)具有基片(1),在该基片的一侧上淀积有:第一记录堆叠(2),包括相变型记录层(6);至少一个另外记录堆叠(3),包括相变型记录层(12);相邻于每一个另外记录堆叠(3)的透明衬垫层(9);该另外记录堆叠(3)具有充足的透射性,以便确保在第一记录堆叠(2)中读和记录的合适敏感性。为了该目的,由HfN<SUB>x</SUB>构成的至少一个散热层(10)存在于记录堆叠(3)的至少一个中,其中1.1≤x≤1.6。散热层(10)还确保该另外记录堆叠(3)的记录层(12)的合适冷却行为,以便在该另外记录堆叠(3)中得到充足的记录性能。 | ||
申请公布号 | CN1589470A | 申请公布日期 | 2005.03.02 |
申请号 | CN02823228.3 | 申请日期 | 2002.10.24 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | J·C·N·里佩斯;周国富 |
分类号 | G11B7/24 | 主分类号 | G11B7/24 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;张志醒 |
主权项 | 1.一种用于通过聚焦激光束(30)可重写地进行记录的多堆叠光学数据存储介质(20),所述介质(20)具有基片(1),在该基片的一侧上淀积有:第一记录堆叠(2),包括相变型记录层(6),所述第一记录堆叠(2)距离聚焦的激光束(30)最远,至少一个另外记录堆叠(3),包括相变型记录层(12),在记录堆叠(2,3)之间的透明衬垫层(9),所述透明衬垫层(9)具有大于聚焦激光束(30)的聚焦深度的厚度,其特征在于,至少一个散热层(8,10,14)存在于记录堆叠(3)的至少一个中,该散热层(8,10,14)包括由公式HfNx表示的化合物,其中x是每个Hf原子对应的原子N的数目,且1.1≤x≤1.6。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |